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X射線熒光光譜法測(cè)試會(huì)受哪方面的影響嗎?

更新時(shí)間:2021-06-29      點(diǎn)擊次數(shù):1280
X射線熒光光譜法測(cè)試會(huì)受哪方面的影響嗎?,首先,被測(cè)樣品與標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)所含元素組成和含量有較大差異,被測(cè)樣品表面有鍍層或經(jīng)化學(xué)處理,測(cè)量時(shí)間,樣品的形狀,樣品測(cè)量的面積。制樣的好壞、標(biāo)準(zhǔn)曲線、參照標(biāo)準(zhǔn)、軟件補(bǔ)償、X射線熒光光譜儀種類:波長或能量或全反射類型等。還有溫度、濕度等自然因素

材質(zhì)必須均勻。你的待測(cè)元素不均勻的話,多的地方和少的地方差別會(huì)較大。因?yàn)閄RF光譜儀入射光線一般較窄,直徑1-5微米,也就是說照射到樣品的區(qū)域會(huì)很小,所以不均勻樣品檢測(cè)會(huì)不準(zhǔn)確,當(dāng)然主要也是看不均勻程度。
你的交錯(cuò)規(guī)律排列指的什么?如果是一層高分子,一層無機(jī)物,在一層高分子一層無機(jī)物,并且每層的厚度一定(比如第一層高分子都是10微米厚)。這樣的可以在一定程度上看成是均勻的,但是用X熒光光譜儀測(cè)量還是有問題,因?yàn)閄熒光透過不同物質(zhì)有無限厚(某元素的X熒光透射不出來的厚度,原因是自吸收)的問題。這樣誤差看你每層的厚度了,如果每層都很薄,比如幾個(gè)微米那么影響會(huì)較小。如果每一層達(dá)到幾十比如50微米以上,那么影響就會(huì)較大

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